天津师范大学学报(自然科学版)

2011, v.31(02) 32-37

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磁控溅射与电弧离子镀制备TiN薄膜的比较
Comparison of TiN films prepared by magnetron sputtering and arc ion plating

李鹏;黄美东;佟莉娜;张琳琳;王丽格;李晓娜;

摘要(Abstract):

分别采用磁控溅射和电弧离子镀在抛光后的W18Cr4V高速钢基体表面沉积TiN膜层,利用纳米力学系统、扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜进行测试,比较了两种方法所制备的薄膜的异同.结果表明:磁控溅射所制备的薄膜表面平整,但沉积速率和硬度均低于电弧离子镀制备的薄膜.

关键词(KeyWords): TiN;磁控溅射;电弧离子镀

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 国家自然科学基金资助项目(61078059);; 天津师范大学学术创新推进计划资助项目(52X09038)

作者(Author): 李鹏;黄美东;佟莉娜;张琳琳;王丽格;李晓娜;

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